设备介绍
VPD-ICPMS VPD-ICPMS（气相分解-ICPMS）
硅片表面金属污染检测（6寸标准片）
主要功能
硅片表面金属污染全面分析
技术指标
6寸4000元，8寸6000元，12寸8000元
应用领域
硅片表面质量控制
咨询与预约
江苏第三代半导体研究院有限公司
中国江苏苏州工业园区金鸡湖大道99号纳米城东北区38栋
电话：15111145911
网址：www.iasemi.cn