设备介绍
AFM AFM（原子力显微镜）
表面形貌像-粗糙度
主要功能
表面形貌成像:获取样品的表面形貌，高度、粗糙度、台阶高度、颗粒尺寸、孔隙分布等二维 / 三维图像。
技术指标
当探针针尖与样品表面距离极近（纳米尺度）时，两者原子之间会产生相互作用力（范德华力、静电力、排斥力、粘附力等）；作用力大小随针尖–样品间距变化。AFM 通过检测该作用力，重构样品三维表面形貌。
多种工作模式切换：
接触模式：探针持续接触样品，适合硬质样品、形貌快速扫描；
轻敲模式（间歇接触模式）：探针间歇接触表面，损伤小，适合各种半导体材料、软材料（高分子、生物样品）；
非接触模式：探针远离样品，依靠长程作用力成像；
1. 成像分辨率： 垂直（Z 轴）分辨率：≤0.1 nm 横向（XY 平面）分辨率：大气环境＜1 nm；
2. 扫描范围： 扫描台尺寸：适合30um≤d≤30cm尺寸的样品，表面高度h≤10μm，样品高度h≤1.8cm。
3. 位移噪声 Z 方向噪声水平：＜0.03 nm（闭环扫描模式）
多种工作模式切换：
接触模式：探针持续接触样品，适合硬质样品、形貌快速扫描；
轻敲模式（间歇接触模式）：探针间歇接触表面，损伤小，适合各种半导体材料、软材料（高分子、生物样品）；
非接触模式：探针远离样品，依靠长程作用力成像；
1. 成像分辨率： 垂直（Z 轴）分辨率：≤0.1 nm 横向（XY 平面）分辨率：大气环境＜1 nm；
2. 扫描范围： 扫描台尺寸：适合30um≤d≤30cm尺寸的样品，表面高度h≤10μm，样品高度h≤1.8cm。
3. 位移噪声 Z 方向噪声水平：＜0.03 nm（闭环扫描模式）
应用领域
1. 材料科学 金属、半导体、薄膜、二维材料（石墨烯、MoS₂）表面形貌、位错、晶界观测； 高分子薄膜、涂层、自组装膜粗糙度、相分离结构； 纳米粉体、纳米线、纳米管尺寸表征； 2. 纳米科技与微电子 晶圆、光刻胶、芯片介质薄膜表面检测； 微器件三维轮廓、边缘粗糙度； 3. 光学、薄膜、涂料工业 光学薄膜、防腐涂层、功能涂层表面粗糙度、缺陷检测；
咨询与预约
江苏第三代半导体研究院有限公司
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