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反应等离子刻蚀机 RIE
收费与计费
计费方式: 按时长计费
单价: 1000元/小时 （0.5h起约）
预约上机
  • 1000 小时
委托加工
  • 1400 小时
刻蚀

反应等离子刻蚀机 RIE

型号：GDE C200L

设备介绍

暂无设备介绍

主要用途

用于刻蚀SiO2、SiN介质材料。

技术指标
1、样品尺寸:6英寸向下兼容
2、ICP射频功率:1200W
3、Bias射频功率:600W
4、片内/片外均匀性:≤±3%
5、腔体控压范围:0.6-11.3 Pa
6、Chiller控温范围:20-90℃
7、工艺气体:Ar、O2、He、N2、C4F8、SF6、CF4、CHF3
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工艺案例
反应等离子刻蚀机 RIE工艺案例

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