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ICPCVD PlasmalabSystem 100 电感耦合等离子体化学气相沉积
收费与计费
计费方式: 按时长计费
单价: 600元/小时（0.5h起约）
预约上机
  • 600 小时
委托加工
  • 840 小时
镀膜

ICPCVD PlasmalabSystem 100 电感耦合等离子体化学气相沉积

型号：PlasmalabSystem100

设备介绍

暂无设备介绍

主要用途

用于低温制备氮化硅、氧化硅、氮氧硅等介质薄膜。

技术指标
1、样品尺寸：6英寸以下兼容
2、生长材料：SiO2、SiNx、SiON
3、气体配置：CF4、O2、N2、Ar、SiH4、N2O
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工艺案例
ICPCVD PlasmalabSystem 100 电感耦合等离子体化学气相沉积工艺案例

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