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等离子体增强化学气相沉积 PECVD
收费与计费
计费方式: 按时长计费
单价: 800元/小时
预约上机
  • 800 小时
委托加工
  • 1120 小时
镀膜

等离子体增强化学气相沉积 PECVD

型号：Taurus i200PES

设备介绍

暂无设备介绍

主要用途

用于制备介质层、钝化层等功能薄膜材料。

技术指标
1、样品尺寸：8英寸以下兼容
2、生长材料：沉积α-Si、SiO2、SiNx薄膜
3、腔体温度：100-400℃
4、气体配置：NF3、N2、Ar、He、SiH4、NO2
5、RF功率：50-1000W
6、片内非均匀性：<2%
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工艺案例
等离子体增强化学气相沉积 PECVD工艺案例

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