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反应磁控溅射 RSputter
收费与计费
计费方式: 按时长计费
单价: 800元/小时
预约上机
  • 800 小时
委托加工
  • 1120 小时
附加收费说明

材料费:10元/10nm(其它材料)

镀膜

反应磁控溅射 RSputter

型号：YRS-650

设备介绍

暂无设备介绍

主要用途

用于制备TiO2、Ta2O5、SiO2，SiN，TiW，TiN等薄膜。

技术指标
1、样品尺寸：8英寸以下兼容
2、靶枪数量：2个（4寸靶）
3、沉积材料：SiO2、TiO2、Ta2O5、TiN等
4、沉积温度：最高150℃
5、片内非均匀性：＜1%
6、片间非均匀性：＜0.5%
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工艺案例
反应磁控溅射 RSputter工艺案例

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