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原子层薄膜沉积 ALD
收费与计费
计费方式: 按时长计费
单价: 800元/小时
预约上机
  • 800 小时
委托加工
  • 1120 小时
镀膜

原子层薄膜沉积 ALD

型号：PTL6PPL8

设备介绍

暂无设备介绍

主要用途

适用于纳米级超薄膜层生长SiO2、Al2O3、TiO2、SiN、AlN、AlON等。

技术指标
1、装盘尺寸：6英寸向下兼容
2、膜层非均匀性：≤±2%
3、成膜速率：0.5-1.2nm/min
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工艺案例
原子层薄膜沉积 ALD工艺案例

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