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磁控溅射 Sputter（PVD75）
收费与计费
计费方式: 按时长计费
单价: 800元/小时
预约上机
  • 800 小时
委托加工
  • 1120 小时
附加收费说明

材料费:90元/10nm(Au 及合金)或75元/10nm(Pd、Pt) 或10元/10nm(其它材料)

镀膜

磁控溅射 Sputter（PVD75）

型号：PVD75

设备介绍

暂无设备介绍

主要用途

用于ITO等透明导电薄膜及金属氧化物的高温沉积。

技术指标
1、样品尺寸:8英寸以下兼容
2、靶枪数量：3（四英寸靶）
3、配置气体：Ar，O2
4、沉积材料:ITO等
5、沉积温度:最高850℃
6、片内均匀性:<5%
7、片间均匀性:<3%
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工艺案例
磁控溅射 Sputter（PVD75）工艺案例

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