八英寸磁控溅射 Sputter
收费与计费
计费方式: 按时长计费
单价: 2000元/小时

预约上机
  • 2000 小时

委托加工
  • 2800 小时

附加收费说明

材料费:150元/10nm(Au 及合金)或75元/10nm(Pd、Pt)或10元/10nm(其它材料)

镀膜

八英寸磁控溅射 Sputter

型号:PHOEBUS


设备介绍

暂无设备介绍


主要用途

用于Ti、Al、Ni、TiN等金属薄膜快速沉积,具备preclean功能。


技术指标
1、工艺本底真空:1E-7mTorr
可达极限真空5E-8mTorr
2、真空配置:干泵+分子泵
3、单腔单靶,最多可配置4腔
4、样品尺寸:8英寸
5、薄膜非均匀性:≤±3%
6、溅射速率:5-30 Å/s