工艺设备列表

提供先进的第三代半导体器件工艺加工设备

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热蒸发 TE
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镀膜

250元/小时
磁控溅射 Sputter（PVD75）
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镀膜

800元/小时
磁控溅射 Sputter（DISCOVERY18）
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镀膜

800元/小时
磁控溅射 Sputter（EXPLORER）
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镀膜

800元/小时
八英寸磁控溅射 Sputter
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镀膜

2000元/小时
低压化学气相沉积 LPCVD
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镀膜

800元/小时