工艺设备列表

提供先进的第三代半导体器件工艺加工设备

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光学镀膜机 OC
光学镀膜机 OC

镀膜

1000元/小时
反应磁控溅射 RSputter
反应磁控溅射 RSputter

镀膜

800元/小时
原子层薄膜沉积 ALD
原子层薄膜沉积 ALD

镀膜

800元/小时
等离子体增强化学气相沉积 PECVD
等离子体增强化学气相沉积 PECVD

镀膜

800元/小时
电子束蒸发 E-beam（EBX）
电子束蒸发 E-beam（EBX）

镀膜

500元/小时
电子束蒸发 E-beam（ULVAC）
电子束蒸发 E-beam（ULVAC）

镀膜

800元/小时
热蒸发 TE
热蒸发 TE

镀膜

250元/小时
磁控溅射 Sputter（PVD75）
磁控溅射 Sputter（PVD75）

镀膜

800元/小时